プラント・装置
TCS（トリクロロシラン）蒸留装置
はじめに
半導体シリコン製造用のトリクロロシランは四塩化硅素から転化製造されますが、このメインプロセスである精製工程に用いられる蒸留装置を納入しており、精製純度は99.999999％（エイトナイン）です。
プラントエンジニアリングとものづくり（メーカー）の企業として、対象がどのような物質であれ、当社の技術と経験を充分駆使し、ユーザー各位のご計画に対しご期待にお応えいたします。設備ご計画の際は是非お声掛けください。
適用分野
ケミカル分野 無機化学分野 新エネルギー分野
物性上の問題点
1：蒸気圧が高い（沸点：31.8℃）
2：引火点が低い
3：微量の水分と接触してもすぐに加水分解をおこす
4：容易に酸化されて有色する性質がある
5：原料に含有する同族体および他の金属塩化物との比揮発度が小さい
6：原料中の製品含有量が少ない
本装置の設計上特に考慮した点として、下記などが挙げられます。
1：製品純度の重視から特に他の金属塩化物の分離
2：冷却水が使用出来るよう加圧蒸留方式の採用
3：原液中のオリゴマーの分離
4：装置建設時の禁油禁水対策および他金属粉の除去
5：装置の安全対策とベントガスの処理