
プラント・装置
超高純度蒸留装置
半導体工業用洗浄液、また医薬品用原料などを超高純度(残留イオン含有濃度;0.01~1.0ppb)にまで精製可能
今日、各分野で高品質が要求されます。当社ではこれらニーズに応えるため超高純度蒸留装置を提供しております。この装置により、半導体工業用洗浄液、また医薬品用原料などを超高純度(残留イオン含有濃度;0.01~1.0ppb)にまで精製することが可能となりました。
適用分野
ケミカル分野 医薬分野
特長
1.高濃縮のため、溶剤回収率が非常に高くほぼ100%回収可能
2.従来のイオン交換樹脂方式に比べて、品質が安定するため製品の管理が容易
3.廃棄物が出ないため環境対策費が低減できる。
4.種々の対策により飛沫同伴を極力防止した設備である。
5.金属の溶出を防止するため、テフロン製の装置も製作可能。
6.過酸化水素など非常に早い分解反応を起こす溶剤に対しても実証済みである。